含氟电子新材料、高纯氟盐及半导体蚀刻液项目

项目简介：

（项目资金为企业自有资金）项目新增厂房3000平方米，购置压滤机、除色塔、精馏塔、过滤洗涤干燥装置、蒸馏回收等设备，建设1.含氟电子新材料生产线：电子级氢氟酸12万t/a、高纯氟硅酸2万t/a；2.高纯氟盐生产线：高纯氟化钙50t/a吨，高纯氟化锂50t/a，高纯氟化镁50t/a，高纯氟化钇50t/a、高纯氟化铍50t/a；3.半导体蚀刻液生产线：混合蚀刻液2000t/a，铜蚀刻液2000t/a，铝蚀刻液2000t/a，硅蚀刻液2000t/a，BOE蚀刻液2000t/a,ITO蚀刻液2000t/a,剥离液2000t/a，显影液2000t/a。（项目年耗能量：电能耗4750千瓦时，水能耗20000吨，折算年能耗标煤为2.297775吨）。

项目进展：

该项目正在办理环评手续；设计未开始；主体未施工；设备采购情况未了解。